蚀刻膏，其生产方法以及使用其形成图案的方法

摘要

本发明的蚀刻膏包括:(a)有机粘合剂;(b)磷酸;(c)含氮化合物;以及(d)溶剂，并且所述(c)含氮化合物是选自胺类化合物或铵类化合物的一种或多种这类化合物。所述蚀刻膏可实现精细的线宽、具有优良的蚀刻特性，并且可以改善由蚀刻膏引起的对于设备的损害。

主权项

一种蚀刻膏，包括:(a)有机粘合剂;(b)磷酸;(c)含氮化合物;以及(d)溶剂。所述(c)含氮化合物包含选自由式1表示的胺类化合物和由式2表示的铵类化合物中至少一种: [式1] (R)n‑N‑Hm(其中，R是Cl至C12烷基或者C6至C12取代的或未取代的芳基;n是1至3的整数;m是0至2的整数;并且n+m为3); [式2] (NH4+)kX‑(其中，X是CO3或OH，k是1或2)。