发明名称 图像擦除方法和图像擦除装置
摘要 本发明的名称是图像擦除方法和图像擦除装置。图像擦除装置包括半导体激光器阵列,其中多个半导体激光光源是线性排列的;宽度方向校准单元,其被提供在半导体激光器阵列的输出表面上,并且被配置来在宽度方向上校准从半导体激光器阵列发射出的激光束加宽以形成线性光束;和长度方向光分布控制单元,其被配置来控制线性光束的长轴的长度大于半导体激光器阵列的发射部件的长轴长度并且在线性光束的长度方向获得均匀的光分布,其中长轴长度大于半导体激光器阵列的发射部件的长轴长度并且在其长度方向上具有均匀的光分布的线性光束被施加到热可逆记录介质并加热热可逆记录介质,其中其透明度和色调的任何一个根据温度可逆地变化,以擦除在热可逆记录介质上记录的图像。
申请公布号 CN102079175B 申请公布日期 2013.07.17
申请号 CN201010515607.5 申请日期 2010.10.19
申请人 株式会社理光 发明人 石见知三;川原真哉;浅井敏明;堀田吉彦
分类号 B41J2/455(2006.01)I;B41M5/26(2006.01)I 主分类号 B41J2/455(2006.01)I
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人 赵蓉民;张全信
主权项 图像擦除装置,其包括:半导体激光器阵列,其中多个半导体激光光源是线性排列的;宽度方向校准单元,其被提供在所述半导体激光器阵列的输出表面上,且配置来在宽度方向上校准从所述半导体激光器阵列发射出的激光束的加宽以形成线性光束;和长度方向光分布控制单元,其被配置来控制所述线性光束的长轴长度大于所述半导体激光器阵列的发射部件的长轴长度并且在所述线性光束的长度方向获得均匀的光分布,其中长轴长度大于所述半导体激光器阵列的发射部件的长轴长度并且在其长度方向上具有均匀的光分布的所述线性光束被施加在热可逆记录介质上并加热所述热可逆记录介质,其中所述热可逆记录介质的透明度和色调的任何一个根据温度可逆地变化,以擦除在所述热可逆记录介质上记录的图像。
地址 日本东京