发明名称 透明导电性膜及触控面板
摘要 本发明的透明导电性膜在折射率为1.61~1.70的基材膜的单面或双面上,按以下顺序具有:折射率为1.50~1.60、且基材膜每一单面侧的光学厚度为(1/4)λ的第1层,折射率为1.61~1.80的第2层,折射率为1.50以下的第3层,及折射率为1.81以上、且被图案化的透明导电膜,基材膜每一单面侧的上述第1层的光学厚度和上述第2层的光学厚度的总计为(1/4)λ(其中,λ为380~780nm的范围)。通过本发明,提供一种透明导电膜图案的目视辨认(透视)被充分抑制的透明导电性膜及具有该透明导电性膜的触控面板。
申请公布号 CN103210454A 申请公布日期 2013.07.17
申请号 CN201280003661.9 申请日期 2012.01.10
申请人 东丽薄膜先端加工股份有限公司 发明人 桐本高代志
分类号 H01B5/14(2006.01)I;B32B7/02(2006.01)I;G06F3/041(2006.01)I 主分类号 H01B5/14(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 杨宏军;王大方
主权项 一种透明导电性膜,在折射率为1.61~1.70的基材膜的单面或双面上,按以下顺序具有:第1层,所述第1层的折射率为1.50~1.60,且基材膜每一单面侧的第1层的光学厚度为(1/4)λ,第2层,所述第2层的折射率为1.61~1.80,第3层,所述第3层的折射率为1.50以下,及透明导电膜,所述透明导电膜的折射率为1.81以上,且所述透明导电膜被图案化;基材膜每一单面侧的所述第2层的光学厚度和所述第3层的光学厚度总计为(1/4)λ,其中,λ为380~780nm。
地址 日本东京都