发明名称 |
成膜装置 |
摘要 |
本发明提供一种包括能够旋转地设置在真空容器内的旋转台的成膜装置。第1和第2反应气体供给部分别向旋转台的一个面供给第1和第2反应气体。从分离气体供给部向被供给第1反应气体的第1处理区域和被供给第2反应气体的第2处理区域之间的分离区域喷出第1分离气体。加热器设置在旋转台的下方侧,利用辐射热加热旋转台。在真空容器的底部以围着设置有加热器的区域中的旋转台的径向外侧的方式设置外侧壁构件。在沿旋转台的旋转方向彼此相邻的分离区域之间设置有从外侧壁构件延伸而在该空间形成构件与旋转台之间形成狭窄的空间的空间形成构件。吹扫气体供给部用于供给经由狭窄的空间而从旋转台的下方侧向旋转台的径向外侧的区域流动的吹扫气体。 |
申请公布号 |
CN101748387B |
申请公布日期 |
2013.07.17 |
申请号 |
CN200910204579.2 |
申请日期 |
2009.12.01 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
加藤寿;本间学 |
分类号 |
C23C16/455(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;张会华 |
主权项 |
一种成膜装置,该成膜装置通过执行在真空容器内向基板上按顺序供给互相反应的至少两种反应气体的循环而在该基板上生成反应生成物的层,从而堆积膜,其中,该成膜装置包括:旋转台,其能够旋转地设置在上述真空容器内;基板载置区域,其设置在上述旋转台的一个面上,用于载置上述基板;第1反应气体供给部,其用于将第1反应气体供给到上述一个面上;第2反应气体供给部,其沿上述旋转台的旋转方向与上述第1反应气体供给部隔开间隔,用于将第2反应气体供给到上述一个面上;分离区域,其沿着上述旋转方向位于被供给上述第1反应气体的第1处理区域和被供给上述第2反应气体的第2处理区域之间,用于分离上述第1处理区域和第2处理区域;加热器,其设置在上述旋转台的下方侧,利用辐射热来加热上述旋转台;外侧壁构件,其以围着设置有上述加热器的区域中的上述旋转台的径向外侧的方式设置在上述真空容器的底部;空间形成构件,其设置在至少沿着上述旋转台的旋转方向彼此相邻的分离区域之间,从上述外侧壁构件延伸而在上述空间形成构件与上述旋转台之间形成第1狭窄的空间;第1吹扫气体供给部,用于供给经由该第1狭窄的空间而从上述旋转台的下方侧向上述旋转台的径向外侧的区域流动的吹扫气体。 |
地址 |
日本东京都 |