光刻系统和投影方法

摘要

本发明涉及一种形成光刻系统的探针，该用于光刻系统使用黑白记录策略，即，记录或不记录栅格单元，而在诸如晶片的目标表面上产生图形，从而在包括栅格单元的栅格上划分该图形，该图形包括尺寸大于栅格单元的尺寸的特征，在每个单元中探针被“接通”或“断开”，其中，探针在目标上覆盖了明显大于栅格单元的表面区域，并且其中，在特征内，在探针尺寸的范围内实现了位置取决于黑白记录的分布，本发明还涉及基于上述系统的方法。

主权项

操作一种无掩模光刻系统的方法，在所述光刻系统中形成记录射束，所述光刻系统用于使用“接通”和“断开”记录策略利用目标表面的相对移动与所述记录射束的定时“接通”和“断开”转换的组合在所述目标表面上记录期望图形，所述方法包括：在包括栅格单元的栅格上划分所述期望图形，其中，所述期望图形包括尺寸大于每个所述栅格单元的尺寸的特征，其中，一特征包括一边缘，改变所述栅格单元的内容以获得适当的已光栅化图形，其中，不记录所述栅格单元的在所述特征内部且在所述边缘附近的部分，并且/或者其中，记录在所述特征外部且在所述边缘附近的额外栅格单元，其中，所述目标上的所述记录射束大于一栅格单元的尺寸，并且所述记录射束覆盖一表面区域，所述表面区域覆盖多个栅格单元，并且其中，在所述目标表面上记录所述适当的已光栅化图形在所述记录射束尺寸的范围内实现了取决于位置的“接通”或“断开”分布，其中，在每个所述栅格单元中，根据所述适当的已光栅化图形“接通”或“断开”所述记录射束，并且其中，特征的图形化在不用多个通道来记录所述适当的已光栅化图形的情况下获得。