| 发明名称 | 光学邻近修正方法 | ||
| 摘要 | 一种光学邻近修正方法，包括：提供待曝光图形；对所述待曝光图形进行校验，确定弱点；确定修正区，所述修正区包括所述弱点；对所述修正区内的待曝光图形进行光学邻近修正。本发明缩短了光学邻近修正过程的时间，提高了生产效率，降低了生产成本。 | ||
| 申请公布号 | CN102193303B | 申请公布日期 | 2013.07.17 |
| 申请号 | CN201010118841.4 | 申请日期 | 2010.03.05 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 | 发明人 | 洪齐元 |
| 分类号 | G03F1/36(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/36(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 李丽 |
| 主权项 | 一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括：提供待曝光图形；对所述待曝光图形进行校验，确定弱点；确定修正区，所述修正区包括所述弱点，所述修正区的总面积不超过所述待曝光图形的总面积的10%；对所述修正区内的待曝光图形进行光学邻近修正。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||