发明名称 提高掩模板开口位置精度的方法及其装置
摘要 本发明涉及一种提高掩模板开口位置精度的方法,通过CCD扫描掩模板,读取位于掩模板边缘处并处于对角方向的两个定位孔的相对坐标(x、y),通过坐标(x、y)确定掩模板中心点o,并将其坐标设定为(0、0),自动生成x、y坐标轴,通过CCD扫描掩模板图形区域开口,读取各开口中心点相对于掩模板中心点的坐标(xn、yn),将坐标(xn、yn)与蒸镀图形象素对比,若坐标值偏差超出±5μm,在基台的固定装置上施加水平方面上的拉力,使开口的位置偏差控制在±5μm;本发明涉及一种提高掩模板开口位置精度的方法及其装置,能以更高的精度、在更短的时间内调整掩模板,使其图形开口的位置精度偏差控制在±5μm。
申请公布号 CN103205703A 申请公布日期 2013.07.17
申请号 CN201210011030.3 申请日期 2012.01.16
申请人 昆山允升吉光电科技有限公司 发明人 魏志凌;高小平;郑庆靓;孙倩
分类号 C23C14/04(2006.01)I 主分类号 C23C14/04(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种提高掩模板开口位置精度的方法,其特征在于,具体步骤包括:将掩模板固定在具有固定作用的基台上;通过CCD扫描掩模板,读取位于掩模板边缘处并处于对角方向的两个定位孔的相对坐标(x、y);通过坐标(x、y)确定掩模板中心点o,并将其坐标设定为(0、0),自动生成x、y坐标轴;通过CCD扫描掩模板图形区域开口,读取各开口中心点相对于掩模板中心点的坐标(xn、yn);将坐标(xn、yn)与蒸镀图形像素对比,若坐标值偏差超出±5μm,在基台的固定装置上施加水平方面上的拉力,使开口的位置偏差控制在±5μm。
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