发明名称 具有密封微腔层的基膜及其制作方法
摘要 本发明公开了一种具有密封微腔层的基膜及其制作方法,所述具有密封微腔层的基膜包括基膜(1)、涂覆在所述的基膜(1)导电层上的微腔明胶层(2)和涂覆在微腔明胶层(2)上的密封明胶层(3);所述的微腔明胶层(2)具有微腔(201),所述的微腔(201)中设有电泳液。本发明使用刮刀涂布法,用明胶作微腔层,用含黑白粒子的四氯乙烯作电泳液,制作了可用于电泳显示的具有密封微腔层的基膜,工艺简单,制作方便。明胶用热水就可以轻易从ITO上擦去,不会影响ITO的导电性。
申请公布号 CN102193265B 申请公布日期 2013.07.17
申请号 CN201110113127.0 申请日期 2011.04.29
申请人 上海天臣防伪技术股份有限公司 发明人 徐良衡;姚红兵;高芸;杨凯
分类号 G02F1/167(2006.01)I;C09D189/00(2006.01)I 主分类号 G02F1/167(2006.01)I
代理机构 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 代理人 罗大忱
主权项 一种具有密封微腔层的基膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤: (1)将圆形聚苯乙烯微球和明胶水溶液的混合物,涂布在基膜导电面上,干燥,打磨基膜涂布层表面,然后在溶剂中浸泡,取出,用溶剂冲洗,干燥,得到表面有微腔的基膜,所述的基膜的材料为镀有透明导电铟锡氧化物的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜材; (2)将电泳液填充在步骤(1)获得的表面有微腔的基膜的微腔中,再在其表面涂布明胶溶液,干燥,即获得具有密封微腔层的基膜。
地址 201614 上海市松江区小昆山镇光华路509号