| 摘要 |
本发明系一种偏光性积层膜之制造方法，其依序包含：底涂层形成步骤，其于基材膜之一个面涂布底涂溶液而形成底涂层；聚乙烯醇系树脂层形成步骤，其于上述底涂层上形成聚乙烯醇系树脂层而获得依序具备上述基材膜、上述底涂层及上述聚乙烯醇系树脂层之积层膜；延伸步骤，其将上述积层膜进行延伸；及染色步骤，其利用二色性色素将上述积层膜之上述聚乙烯醇系树脂层进行染色而制成偏光元件层；且该偏光性积层膜依序具备上述基材膜、上述底涂层及上述偏光元件层；且上述底涂溶液中之环氧系交联剂之浓度未达0.1重量%。根据本发明，可提供一种即使于基材膜上形成底涂层后暂时卷取之情形时亦不会产生黏连，其后之搬送亦不会黏着于搬送辊且不会降低制造后之偏光性积层膜中之基材膜与聚乙烯醇系树脂层之密接力的偏光性积层膜之制造方法。 |
