发明名称 HERSTELLUNG VON METALL-HARTMASKEN
摘要 Die vorliegende Offenbarung stellt Verfahren zum Herstellen einer Metall-Hartmaske und eine durch solche Verfahren hergestellte Metall-Hartmaske bereit. Ein Verfahren umfasst Einströmen mindestens eines Metall-Reaktionsmittelgases in eine Reaktionskammer, dazu ausgerichtet, eine chemische Gasabscheidung (CVD) durchzuführen, wobei das mindestens eine Metall-Reaktionsmittelgas ein Metall-Halogen-Gas oder ein metall-organisches Gas enthält. Das Verfahren umfasst ferner Abscheiden einer Hartmasken-Metallschicht durch CVD unter Verwendung des mindestens einen Metall-Reaktionsmittelgases.
申请公布号 DE102012206598(A1) 申请公布日期 2013.07.11
申请号 DE201210206598 申请日期 2012.04.20
申请人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. 发明人 LIN, SU-HORNG;WU, LIN-JUNG;YANG, CHI-MING;LIN, CHIN-HSIANG
分类号 C23C16/34;C23C16/04;C23C16/08;C23C16/56;H01L21/033 主分类号 C23C16/34
代理机构 代理人
主权项
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