发明名称 Verfahren zum Ausbilden vollständig eingelassener, kontakthöckerfreier Aufbauschichtverpackungen und dadurch ausgebildete Strukturen
摘要 <p>Es sind Verfahren zum Ausbilden einer mikroelektronischen Verpackungsstruktur und zugehörige Strukturen, die dadurch ausgebildet sind, beschrieben. Diese Verfahren können einen Chip beinhalten, der in ein kernloses Substrat eingelassen ist, wobei eine Gießzusammensetzung den Chip umgibt, und wobei der Chip TSV-Verbindungen auf einer ersten Seite und C4-Kontaktstellen auf einer zweiten Seite des Chips, ein dielektrisches Material auf einer ersten Seite und auf einer zweiten Seite der Gießzusammensetzung und Zusammenschaltungsstrukturen umfasst, die an die C4-Kontaktstellen und an die TSV-Kontaktstellen gekoppelt sind. Ausführungsformen beinhalten ferner das Ausbilden von Verpackungsstrukturen, bei denen mehrere Chips vollständig innerhalb einer BBUL-Verpackung ohne PoP-Anschlussflächen eingelassen sind.</p>
申请公布号 DE112011103222(T5) 申请公布日期 2013.07.11
申请号 DE201111103222T 申请日期 2011.09.26
申请人 INTEL CORPORATION 发明人 MALATKAR, PRAMOD;NALLA, RAVI K.;MANUSHAROW, MATHEW J.
分类号 H01L21/60;H01L23/12;H01L23/48;H01L23/485 主分类号 H01L21/60
代理机构 代理人
主权项
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