发明名称 包括保护层和经曝光的光聚合物层的层压结构
摘要 本发明涉及一种层压结构,其包括保护层和经曝光的光聚合物层,该层压结构可通过至少一种辐射固化树脂I),异氰酸酯官能化树脂II)和光引发剂体系III)反应得到,其中辐射固化树脂I)含有≤5重量%的重均分子量<500的化合物和≥75重量%的重均分子量>1000的化合物,异氰酸酯官能化树脂II)含有≤5重量%的重均分子量<500的化合物,且保护层含有至少80重量%的辐射固化树脂I)和至多15重量%的异氰酸酯官能化树脂II)。本发明还提供一种制备本发明的层压结构的方法。
申请公布号 CN103198841A 申请公布日期 2013.07.10
申请号 CN201310002596.4 申请日期 2013.01.05
申请人 拜耳知识产权有限责任公司 发明人 T·法克;夫里德里克-卡尔·布鲁德;T·罗尔;马克-斯蒂芬·韦泽;D·奥内尔;H·伯尔尼斯;U·弗莱姆
分类号 G11B7/245(2006.01)I;G11B7/24044(2013.01)I 主分类号 G11B7/245(2006.01)I
代理机构 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人 苏萌;钟守期
主权项 层压结构,其包括保护层和经曝光的光聚合物层,该层压结构可通过至少一种辐射固化树脂I),异氰酸酯官能化树脂II)和光引发剂体系III)反应得到,其中辐射固化树脂I)含有≤5重量%的重均分子量<500的化合物和≥75重量%的重均分子量>1000的化合物,异氰酸酯官能化树脂II)含有≤5重量%的重均分子量<500的化合物,且保护层含有至少80重量%的辐射固化树脂I)和至多15重量%的异氰酸酯官能化树脂II)。
地址 德国蒙海姆