发明名称 利用粘着底漆层的压印光刻法
摘要 本发明为压印光刻法提供施加粘着底漆层的方法,该方法包括在一种涂布法中使流体与基片表面接触和引发在该流体中的组分与基片的表面之间形成共价键的化学反应以便使粘着底漆层附着于基片的表面。聚合层可以附着于被粘着底漆层覆盖的基片的表面。该方法可为包括有图案的磁介质的双面压印应用涂布粘着底漆层。
申请公布号 CN101702886B 申请公布日期 2013.07.10
申请号 CN200880011551.0 申请日期 2008.03.19
申请人 分子制模股份有限公司 发明人 F·Y·徐;S·V·斯利尼瓦森;E·B·弗莱彻
分类号 B05D1/00(2006.01)I 主分类号 B05D1/00(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 郭辉;周承泽
主权项 一种利用粘着底漆层的压印光刻方法,包括以下步骤:(a)使基片与多官能组分接触,其中(i)所述多官能组分包括第一端部、第二端部以及介于所述第一端部与第二端部之间的连接基团,其中(ii)所述第一端部包含四价原子,其中(iii)所述连接基团是最多具有三个碳原子的烃基;(b)使该多官能组分的第一端部的四价原子与基片共价结合以形成粘着底漆层;(c)在压印光刻过程中使该多官能组分的第二端部与聚合性材料共价结合。
地址 美国得克萨斯州