发明名称 |
电子束泵浦式紫外线金属表面处理系统 |
摘要 |
本实用新型涉及表面处理领域,具体涉及紫外表面处理领域。电子束泵浦式紫外线金属表面处理系统包括一反应室、一清洗执行系统,清洗执行系统连接一紫外光源,以及一控制系统,紫外光源采用一电子束激发紫外光源,电子束激发紫外光源包括一电致发光半导体机构,还包括一激励源,激励源采用一电子枪系统;电致发光半导体机构设置在电子枪系统的靶向方向上,电致发光半导体机构连接一电极;电子束激发紫外光源还设有一用于透射出紫外线的出光口。通过将传统的紫外线金属表面处理系统中的紫外光源替换为新型的电子束激发紫外光源,减小设备体积、降低功耗并且提高了特定波段紫外光的纯度。 |
申请公布号 |
CN203056369U |
申请公布日期 |
2013.07.10 |
申请号 |
CN201220712123.4 |
申请日期 |
2012.12.20 |
申请人 |
上海显恒光电科技股份有限公司 |
发明人 |
张学渊;赵健;梁忠辉;钟伟杰;唐伟;夏忠平 |
分类号 |
H01S5/20(2006.01)I;H01S5/024(2006.01)I;B23K26/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01S5/20(2006.01)I |
代理机构 |
上海精晟知识产权代理有限公司 31253 |
代理人 |
何新平 |
主权项 |
电子束泵浦式紫外线金属表面处理系统包括一反应室、一清洗执行系统,所述清洗执行系统连接一紫外光源,以及一控制系统,其特征在于: 所述紫外光源采用一电子束激发紫外光源,所述电子束激发紫外光源包括一电致发光半导体机构,还包括一激励源,所述激励源采用一电子枪系统; 所述电致发光半导体机构设置在所述电子枪系统的靶向方向上,所述电致发光半导体机构连接一电极; 所述电子束激发紫外光源还设有一用于透射出紫外线的出光口。 |
地址 |
201210 上海市徐汇区宜山路829号6幢504室 |