发明名称 | 具有用于控制部件温度的机构的等离子处理系统 | ||
摘要 | 公开一种具有改进的部件温度控制的等离子处理系统。该系统可包括具有室壁的等离子处理室。该系统还可包括设在该等离子处理室内部的电极。该系统还可包括设在该等离子处理室内部的支撑构件,用以支撑该电极。该系统还可包括设在该室壁外面的支撑板。该系统还可包括设为穿过该室壁的悬臂,用以将该支撑构件与该支撑板连接。该系统还可包括设在该室壁和该支撑板之间的提升板。该系统还可包括热阻连接机构,用以将该提升板与该支撑板机械连接。 | ||
申请公布号 | CN102057472B | 申请公布日期 | 2013.07.10 |
申请号 | CN200980122417.2 | 申请日期 | 2009.06.10 |
申请人 | 朗姆研究公司 | 发明人 | 詹姆斯·E·塔潘 |
分类号 | H01L21/3065(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01)I |
代理机构 | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人 | 周文强;李献忠 |
主权项 | 一种等离子处理系统,用于处理至少一个衬底,该等离子处理系统包括:等离子处理室,包括至少一个室壁;电极,设在该等离子处理室内部并构造为支撑该衬底;支撑构件,设在该等离子处理室内部并构造为支撑该电极;支撑板,设在该室壁外面;悬臂,设为穿过该室壁并构造为将该支撑构件与该支撑板连接;提升板,设在该室壁和该支撑板之间;以及一个或多个热阻机构,构造为将该提升板与该支撑板机械连接。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |