| 摘要 |
1. Подложка активной матрицы, содержащая:изолирующую подложку;множество переключающих элементов, обеспеченных на изолирующей подложке;множество шин, обеспеченных на изолирующей подложке и подсоединенных к переключающим элементам;межслойную изолирующую пленку, покрывающую множество переключающих элементов и множество шин;множество пиксельных электродов, сформированных на межслойной изолирующей пленке; имножество выводов, отходящих от множества шин и расположенных с заранее определенным интервалом, при этомпо меньшей мере часть каждого из множества выводов не покрыта межслойной изолирующей пленкой, иотражающий слой, сконфигурированный для отражения света в направлении, противоположном изолирующей подложке, обеспечен в области, которая является по меньшей мере частью каждого зазора между соседними выводами и включает в себя край межслойной изолирующей пленки, если смотреть под прямым углом к поверхности изолирующей подложки.2. Подложка активной матрицы по п.1, в которойотражающий слой размещен независимо в каждом зазоре между соседними выводами.3. Подложка активной матрицы по п.1, в которойотражающий слой сформирован проходящим по обеим сторонам каждого из выводов в направлении ширины вывода.4. Подложка активной матрицы по любому из пп.1-3, в которойотражающий слой выполнен из металлического слоя.5. Подложка активной матрицы по любому из пп.1-3, в которойк множеству выводов подсоединена внешняя схема.6. Подложка активной матрицы по любому из пп.1-3, в которойвесь отражающий слой покрыт изолирующей пленкой.7. Устройство отображения, содержащее:подложку активной матрицы;противолежащую подложку, расположен |
