| 发明名称 | 清洗厚膜光刻胶的清洗剂 | ||
| 摘要 | 一种光刻胶清洗剂包括二甲基亚砜、氢氧化钾、烷基醇胺和烷基二醇单苯基醚。该清洗剂可除去金属、金属合金或电介质基材上的100μm厚的光刻胶。 | ||
| 申请公布号 | CN101548242B | 申请公布日期 | 2013.07.10 |
| 申请号 | CN200780044774.2 | 申请日期 | 2007.12.10 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 彭洪修;史永涛;刘兵 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;C23G1/06(2006.01)I;C11D1/83(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种清洗厚膜光刻胶的清洗剂，其特征在于：由二甲基亚砜、氢氧化钾、烷基醇胺，烷基二醇单苯基醚和缓蚀剂组成。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||