发明名称 |
一种对准装置和方法 |
摘要 |
一种对准装置,包括:光源;用于承载硅片的工件台,可6自由度精确定位;具有硅片对准光栅的硅片;反射镜,使所述光源发出的光入射到所述硅片对准光栅上并遮挡由所述硅片对准光栅衍射的0级光;投影系统,可收集由硅片对准光栅衍射的非0级光,并投射到参考光栅上;其上具有参考光栅的参考标记板,所述参考光栅对经由所述投影系统的非0级光进行再次衍射;用于收集由参考光栅透过的衍射光所形成的干涉条纹的图像的面阵探测器;图像抓取和信号处理系统,从探测器获取干涉条纹图像并对其进行信号处理。 |
申请公布号 |
CN103197518A |
申请公布日期 |
2013.07.10 |
申请号 |
CN201210001425.5 |
申请日期 |
2012.01.05 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
徐文;王帆 |
分类号 |
G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F9/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京连和连知识产权代理有限公司 11278 |
代理人 |
王光辉 |
主权项 |
一种对准装置,包括:光源;用于承载硅片的工件台,可6自由度精确定位;具有硅片对准光栅的硅片;反射镜,使所述光源发出的光入射到所述硅片对准光栅上并遮挡由所述硅片对准光栅衍射的0级光;投影系统,可收集由所述硅片对准光栅衍射的非0级光,并投射到一参考光栅上;参考标记板,具有所述参考光栅,所述参考光栅对经由所述投影系统的非0级光进行再次衍射;面阵探测器,用于收集经由所述参考光栅再次衍射的非0级光所形成的干涉条纹的图像;图像抓取和信号处理系统,从所述面阵探测器获取所述干涉条纹图像并对其进行信号处理。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 |