离子注入机

摘要

本实用新型针对现有采用现有离子注入机进行离子注入工艺复杂、设备造价高的不足，提供一种离子注入机，其离子源系统由RF电源驱动，天线设置在放电室顶部外，放电室由石英制成，离子源产生的离子束经由引出缝引出，引出系统中离子束经过的通道，由硅材料制成或镶嵌硅材料制成的部件；靶片能在所述靶室内在垂直于所述的引出缝的长度方向上移动，天线沿着所述引出缝的长度方向设置；采用本实用新型结构的离子注入机，可使离子注入方法简单且造价低。

主权项

一种离子注入机，包括离子源系统(1)、真空系统(4)、引出系统(2)和设置有靶片(19)的靶室(18)，所述真空系统(4)为所述的离子源系统(1)、所述的引出系统(2)及靶室(18)提供真空条件，其特征在于：所述的离子源系统(1)包括放电室(12)和天线(11)，由RF电源驱动，天线(11)设置在所述放电室(12)顶部外，所述的放电室由石英制成；所述引出系统(2)包括引出缝(13)和引出电极，离子源产生的离子束经由所述的引出缝(13)引出后，由引出电极引入所述的靶室(18)，所述的引出系统中离子束经过的通道，由硅材料制成或镶嵌硅材料制成的部件；所述靶片(9)能在所述靶室(18)内在垂直于所述的引出缝(13)的长度方向上移动，所述天线(11)沿着所述引出缝(13)的长度方向设置。