| 发明名称 | 光蚀刻用复合显影液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光蚀刻用复合显影液，主要应用于窄线宽的集成电路和高分辨率薄膜晶体管液晶显示器领域，其组成比例为：包含重量百分比为0.1-25%TMAH和0.1-25%TEAH，其余为水；TMAH与TEAH的重量比在3-5:1。本发明复合显影液可显著改善显影品质，降低图案坍塌风险，并能有效改善显影稳定性，提高显影效率。 | ||
| 申请公布号 | CN103197516A | 申请公布日期 | 2013.07.10 |
| 申请号 | CN201310134759.4 | 申请日期 | 2013.04.18 |
| 申请人 | 合肥格林达电子材料有限公司 | 发明人 | 徐雅玲;黄源;尹云舰;罗江 |
| 分类号 | G03F7/32(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人 | 周烽 |
| 主权项 | 一种光蚀刻复合显影液，其特征在于，它包含重量百分比为0.1‑25%的TMAH和0.1‑25%的TEAH，其余为水；其中，TMAH与TEAH的重量比约为3‑5:1。 | ||
| 地址 | 230012 安徽省合肥市瑶海区张洼路新站区工业园 | ||