发明名称 |
使用FIB技术制备SEM或TEM样品保护层的方法 |
摘要 |
本发明提供了一种使用FIB技术制备SEM或TEM样品保护层的方法,用于目标表面为金属材质的样品,该方法包括:使用电子束选择性扫描目标区域;SEM或TEM中的气态有机杂质在电子束的作用下在所述目标区域上沉积有机材质层;在有机材质层上沉积金属保护层。本发明提供的使用FIB技术制备SEM或TEM样品保护层的方法,在利用FIB技术常规制样前,先利用电子束在目标区域上沉积有机材质层,使目标区域的表面为金属材质的样品,由于沉积的有机材质和目标区域表面的金属材质具有很强的对比度,大大提高了需要精确定位的SEM或TEM样品的金属材质表面的界面清晰度,提高了SEM或TEM的分析质量。 |
申请公布号 |
CN103196728A |
申请公布日期 |
2013.07.10 |
申请号 |
CN201310120787.0 |
申请日期 |
2013.04.09 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
陈强 |
分类号 |
G01N1/28(2006.01)I |
主分类号 |
G01N1/28(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
陆花 |
主权项 |
一种使用FIB技术制备SEM或TEM样品保护层的方法,用于目标表面为金属材质的样品,其特征在于,包括:使用电子束选择性扫描目标区域;SEM或TEM中的气态有机杂质在所述电子束的作用下在所述目标区域上沉积有机材质层;在所述有机材质层上沉积金属保护层。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路497号 |