发明名称 确定X射线源的X射线发射产量的变化
摘要 本发明涉及确定X射线管的X射线发射产量的变化,特别是确定剂量下降。为了提供对该变化的确定,提供了一种X射线源,包括:阴极;阳极;以及至少一个X射线传感器(16)。所述阴极朝向所述阳极发射电子,并且所述阳极包括靶区域,所述电子撞击到所述靶区域上,生成X射线辐射。X射线挡板(24)设置有用于从所述X射线辐射形成发射X射线束的空隙(26),其中,所述发射X射线束具有带中心轴线的束形态(30)。所述至少一个X射线传感器布置在所述束形态内,并且测量X射线发射的相对于所述中心轴线具有角度的特定方向的X射线强度。所述至少一个X射线传感器能够安置在所述束形态(30)内,但是在由光阑(36)确定的“实际视场”(40)外。
申请公布号 CN103201818A 申请公布日期 2013.07.10
申请号 CN201180053764.1 申请日期 2011.11.02
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 H·P·施普龙;M·K·迪尔;R·基维特
分类号 H01J35/02(2006.01)I;H05G1/30(2006.01)I 主分类号 H01J35/02(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 舒雄文;蹇炜
主权项 一种X射线源(10),包括:‑阴极(12);‑阳极(14);以及‑至少一个X射线传感器(16);其中,所述阴极朝向所述阳极发射电子(18);其中,所述阳极包括靶区域(20),所述电子撞击到所述靶区域(20)上,生成X射线辐射(22);其中,X射线挡板(24)设置有用于从所述X射线辐射形成发射X射线束(28)的空隙(26);其中,所述发射X射线束具有带中心轴线(32)的束形态(30);其中,所述发射束形态能够视为对于该X射线源的配置的最大研究场;其中,所述至少一个X射线传感器布置在所述束形态内;并且其中,所述至少一个X射线传感器测量X射线发射的相对于所述中心轴线的特定方向(34)上的相对小角度的圆缺的X射线强度。
地址 荷兰艾恩德霍芬