发明名称 抗篡改半导体器件以及制造该抗篡改半导体器件的方法
摘要 本发明涉及一种抗篡改半导体器件,该抗篡改半导体器件包括衬底(5),所述衬底(5)包括布置在所述衬底(5)的第一侧上的电子电路。在所述衬底(5)的与所述第一侧相对的第二侧上布置导电保护层(50,50a,50b)。至少三个贯穿衬底的连接(45)从所述衬底(5)的第一侧延伸至衬底(5)中并且与所述衬底(5)第二侧的导电保护层(50,50a,50b)电接触。在所述第一侧上布置安全电路,所述安全电路连接至贯穿衬底的导电连接(45),并且被布置用于:通过贯穿衬底的导电连接(45)来测量导电保护层(50,50a,50b)的至少两个电阻值(R12,R23,R34,R14,R13,R24)。所述安全电路还被布置用于将所测量的电阻值(R12,R23,R34,R14,R13,R24)与基准电阻值进行比较。
申请公布号 CN101772775B 申请公布日期 2013.07.10
申请号 CN200880101346.3 申请日期 2008.07.29
申请人 NXP股份有限公司 发明人 约翰内斯·A·J·范格洛文;皮姆·T·图尔斯;罗伯斯特·A·M·沃斯特;耐恩克·维尔哈德
分类号 G06K19/073(2006.01)I;G08B29/04(2006.01)I;H01L23/58(2006.01)I 主分类号 G06K19/073(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王波波
主权项 一种抗篡改半导体器件,包括:‑半导体衬底(5),包括布置在所述半导体衬底(5)的第一侧上的电子电路;所述半导体器件的特征在于布置在所述半导体衬底(5)的与所述第一侧相对的第二侧上的导电保护层(50,50a,50b);‑至少三个贯穿衬底的导电连接(45),从所述半导体衬底(5)的第一侧延伸至所述半导体衬底(5)中,并且与所述半导体衬底(5)的第二侧上的导电保护层(50,50a,50b)电接触;‑安全电路,布置在所述第一侧上,连接至所述贯穿衬底的导电连接(45),并且被布置用于:i)通过贯穿衬底的导电连接(45)来测量所述导电保护层(50,50a,50b)的至少两个电阻值(R12,R23,R34,R14,R13,R24),以提供安全码,以及ii)将所述安全码(R12,R23,R34,R14,R13,R24)与基准码进行比较。
地址 荷兰艾恩德霍芬