发明名称 Metallgateelektrodenstrukturen mit großem &egr;, die durch Entfernen eines Austrittsarbeitsmetalls an Seitenwänden in einer Austauschgatetechnik hergestellt ist
摘要 Bei der Herstellung komplexer Metallgateelektrodenstrukturen mit großemεauf der Grundlage eines Austauschgateverfahrens werden die Füllbedingungen beim Einfüllen des gut leitenden Elektrodenmetalls, etwa von Aluminium, verbessert, indem das abschließende Austrittsarbeitsmetall, beispielsweise ein Titannitridmaterial, in p-Kanaltransistoren entfernt wird, wobei lediglich ein gut definierte Unterseitenschicht bewahrt wird.
申请公布号 DE102012213880(A1) 申请公布日期 2013.07.04
申请号 DE201210213880 申请日期 2012.08.06
申请人 GLOBALFOUNDRIES INC. 发明人 HEMPEL, KLAUS;PRINDLE, CHRISTOPHER;STEPHAN, ROLF
分类号 H01L21/8234;H01L21/283;H01L21/8238;H01L27/088;H01L29/423 主分类号 H01L21/8234
代理机构 代理人
主权项
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