发明名称 |
Metallgateelektrodenstrukturen mit großem &egr;, die durch Entfernen eines Austrittsarbeitsmetalls an Seitenwänden in einer Austauschgatetechnik hergestellt ist |
摘要 |
Bei der Herstellung komplexer Metallgateelektrodenstrukturen mit großemεauf der Grundlage eines Austauschgateverfahrens werden die Füllbedingungen beim Einfüllen des gut leitenden Elektrodenmetalls, etwa von Aluminium, verbessert, indem das abschließende Austrittsarbeitsmetall, beispielsweise ein Titannitridmaterial, in p-Kanaltransistoren entfernt wird, wobei lediglich ein gut definierte Unterseitenschicht bewahrt wird.
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申请公布号 |
DE102012213880(A1) |
申请公布日期 |
2013.07.04 |
申请号 |
DE201210213880 |
申请日期 |
2012.08.06 |
申请人 |
GLOBALFOUNDRIES INC. |
发明人 |
HEMPEL, KLAUS;PRINDLE, CHRISTOPHER;STEPHAN, ROLF |
分类号 |
H01L21/8234;H01L21/283;H01L21/8238;H01L27/088;H01L29/423 |
主分类号 |
H01L21/8234 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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