电场辅助化学机械抛光系统及其方法

摘要

本发明涉及一种抛光垫结构设计，其包括一底盘；一抛光垫本体，在所述抛光垫本体上具有若干个凹孔；若干个金属底部被设置于所述等凹孔内，并且在每一所述等凹孔内都具有一金属底部；一电源正极导线，其用于电性连接至一正极电源供应部；以及一电源负极导线，其用于电性连接至一负极电源供应部；其中所述电源正极导线及所述电源负极导线，穿过所述底盘而交错地连接至所述若干金属底部。本发明之抛光垫可以产生电渗透(Electro-osmosis)现象及电化学反应而使部份材料移除，进而有效降低残留应力、有效降低缺陷的产生、移除速率快及维持研磨颗粒均一性等优点及功效。

主权项

一种抛光垫，其包括：一底盘；一抛光垫本体，其不具导电性并且被设置于所述底盘上，并且在所述抛光垫本体上具有若干个凹孔；若干金属底部，其设置于所述等凹孔内，并且所述每一凹孔内都具有一个金属底部；一电源正极导线，用于电性连接至一正极电源供应部；以及一电源负极导线，用于电性连接至一负极电源供应部；其中所述电源正极导线及所述电源负极导线，穿过所述底盘而交错地连接至所述若干金属底部。