| 发明名称 | 光致抗蚀外涂组合物和电子设备的形成方法 | ||
| 摘要 | 光致抗蚀涂覆组合物和电子设备的形成方法。提供了光致抗蚀涂覆组合物、以涂覆组合物涂覆的基底和通过负性显影方法形成电子设备的方法。所述组合物、涂覆基底和方法尤其用于半导体设备的制造。提供了一种光致抗蚀外涂组合物，所述组合物包括：含下述通式(I)所示的单体作为可聚合单元的聚合物；有机溶剂；和碱性淬灭剂。<img file="DSA00000830035700011.GIF" wi="375" he="340" /> | ||
| 申请公布号 | CN103186040A | 申请公布日期 | 2013.07.03 |
| 申请号 | CN201210570028.X | 申请日期 | 2012.09.10 |
| 申请人 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 发明人 | Y·C·裴;R·贝尔;朴钟根;李承泫 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I;G03F7/09(2006.01)I;G03F7/16(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/004(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 陈哲锋 |
| 主权项 | 1.一种光致抗蚀外涂组合物，所述组合物包括：含下述通式(I)所示的单体作为可聚合单元的聚合物<img file="FSA00000830035900011.GIF" wi="1060" he="459" />其中：R<sub>1</sub>选自氢和取代或未取代的C1至C3烷基；R<sub>2</sub>选自取代或未取代的C1至C15烷基；X是氧、硫或以式R<sub>3</sub>表示，其中R<sub>3</sub>选自氢和取代和未取代的C1至C10烷基；且Z是单键或间隔单元，其选自任选地取代未取代的脂肪烃和芳香烃及其组合，任选与选自-O-、-S-、-COO-和-CONR<sub>4</sub>-中的一个或多个连接片段一起，其中R<sub>4</sub>选自氢和取代和未取代的C1至C10烷基；有机溶剂；和碱性淬灭剂。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||