发明名称 |
微分相位对比成像 |
摘要 |
本发明涉及微分相位对比成像,尤其涉及一种用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅、例如分析器光栅和相位光栅的结构。为了更好地利用通过对象的X射线辐射,提供一种用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅(14),其具有第一子区域(26)的至少一个部分(24)和第二子区域(30)的至少一个部分(28)。所述第一子区域包括具有多个以第一光栅间距PG(38)周期性布置的条(34)和间隙(36)的光栅结构(54),其中,所述条被布置成使得它们改变X射线辐射的相位和/或幅度,并且其中,所述间隙是能透过X射线的。所述第二子区域是能透过X射线的,并且其中,所述第二子区域的至少一个部分在光栅中提供能透过X射线的孔径(40)。沿至少一个方向(42)以交替方式布置第一子区域和第二子区域的各部分。 |
申请公布号 |
CN103189739A |
申请公布日期 |
2013.07.03 |
申请号 |
CN201180050117.5 |
申请日期 |
2011.10.12 |
申请人 |
皇家飞利浦电子股份有限公司 |
发明人 |
E·勒斯尔 |
分类号 |
G01N23/04(2006.01)I;G01N23/20(2006.01)I;G21K1/06(2006.01)I;A61B6/06(2006.01)I |
主分类号 |
G01N23/04(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
王英;刘炳胜 |
主权项 |
一种用于进行X射线微分相位对比成像的衍射光栅(14,15),包括:‑第一子区域(26)的至少一个部分(24);以及‑第二子区域(30)的至少一个部分(28);其中,所述第一子区域包括具有多个以第一光栅间距PG1(38)周期性布置的条(34)和间隙(36)的光栅结构(54);其中,所述条被布置成使得它们改变X射线辐射的相位和/或幅度,并且其中,所述间隙是能透过X射线的;其中,所述第二子区域是能透过X射线的,并且其中,所述第二子区域的所述至少一个部分在所述光栅中提供能透过X射线的孔径(40);其中,沿至少一个方向(42)以交替方式布置所述第一子区域和第二子区域的各部分。 |
地址 |
荷兰艾恩德霍芬 |