发明名称 光电半导体芯片及其制造的方法
摘要 说明了一种光电半导体芯片(10),其包括半导体层堆叠(2)和转换层(3)。半导体层堆叠(2)具有用于产生辐射的有源层(2a)。转换层(3)布置在半导体层堆叠(2)的辐射出射侧(21)上,其中转换层(3)适于将由有源层(2a)发射的辐射中的至少一部分转换成另一波长的辐射。半导体层序列(2)的辐射出射侧(21)具有第一纳米结构化部,其中转换层(3)布置在第一纳米结构化部(4)中。此外,说明了一种制造这种半导体芯片(10)的方法。
申请公布号 CN103190003A 申请公布日期 2013.07.03
申请号 CN201180054262.0 申请日期 2011.11.02
申请人 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 发明人 M.扎巴蒂尔;A.林科夫;C.克尔佩尔;M.施特拉斯堡;N.冯马尔姆
分类号 H01L33/20(2006.01)I;H01L33/50(2006.01)I;H01L33/08(2006.01)I;H01L33/24(2006.01)I 主分类号 H01L33/20(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 丁永凡;刘春元
主权项 一种光电半导体芯片(10),其具有:‑ 半导体层堆叠(2),其具有设置用于产生辐射的有源层(2a)和辐射出射侧(21),以及‑ 转换层(3),其布置在半导体层堆叠(2)的辐射出射侧(21)上,其中‑ 转换层(3)适于将由有源层(2a)发射的辐射中的至少一部分转换成另一波长的辐射,‑ 半导体层序列(2)的辐射出射侧(21)具有第一纳米结构化部(4),以及‑ 转换层(3)布置在第一纳米结构化部(4)中。
地址 德国雷根斯堡