发明名称 利用反射泰铂效应成像的微结构放大装置
摘要 本实用新型公开了一种利用反射泰铂效应成像的微结构放大装置,包括光源(1),在光源(1)的射出光路上设有汇聚透镜(2),在汇聚透镜(2)的射出光路上设有可相互切换的定标光路及放大光路,在光路修整结构的射出光路上设有样品放置台(6),在反射光路上设有反射泰铂成像屏(7)。本实用新型采用激光作为光源,通过光路修整激光的波形后,对不透明的周期结构样品进行照射,使照射后产生反射自成像。本实用新型可应用于各种激光微加工结构的观察与控制系统中,特别是在硅基上的光子晶体与波导的光子制备中,它能对真空腔中的样品实现在线的反射泰铂成像放大与显微分析,极大的简化了硅基上微结构的放大与显微工序,提高了生产效率。
申请公布号 CN203037932U 申请公布日期 2013.07.03
申请号 CN201220424419.6 申请日期 2012.08.26
申请人 贵州大学 发明人 黄伟其
分类号 G02B27/09(2006.01)I;G01N21/47(2006.01)I 主分类号 G02B27/09(2006.01)I
代理机构 贵阳中新专利商标事务所 52100 代理人 李亮;程新敏
主权项 一种利用反射泰铂效应成像的微结构放大装置,包括光源(1),其特征在于:在光源(1)的射出光路上设有汇聚透镜(2),在汇聚透镜(2)的射出光路上设有可相互切换的定标光路及放大光路,在光路修整结构的射出光路上设有样品放置台(6),在反射光路上设有反射泰铂像屏(7)。
地址 550025 贵州省贵阳市花溪区贵州大学北校区科学技术处