一种透明导电膜及其制作方法

摘要

本发明提供一种透明导电膜，该透明导电膜包括透明基底和导电金属，其中在透明基底上利用纳米压印技术压制出用于埋设导电金属颗粒的凹槽以及用于透光的网格，通过设计凹槽的线宽和深度以及占整个透明导电膜的比重，得到了一种透光率高且导电性好的透明导电膜。同时，由于导电金属部分被镶嵌在透明基底内部，不易脱落和氧化，并且可以采用柔性材料作为透明基底，开发出能在更多场合下应用的透明导电膜。同时本发明还提供了该透明导电膜的制作方法。

主权项

一种透明导电膜，包括透明基底和导电金属，其特征在于：所述透明基底包括导电区和透光区，该导电区为网线状凹槽，该凹槽压制于所述透明基底的表面，该透光区为该网线状凹槽围成的网格；所述导电金属填设于该导电区的网线状凹槽内，其中该凹槽的面积与该网格的面积之比小于5％，所述透光区的网格为正多边形，其边长尺度小于200um，所述透明基底为柔性透明材料，其透光率大于90％，所述导电区的凹槽深宽比大于1∶1，所述凹槽通过纳米压印工艺形成，该纳米压印工艺为卷对卷辊筒压印，使用凸模在一透明基底上压印出网格图案，其中该网格的边线即为凹槽，所述凸模的制备工艺包括：采用扫描光刻或平铺光刻，在光刻胶表面刻蚀出网格图案，该网格的边线为凹槽，且该凹槽的深宽比大于1∶1；通过真空溅射或者化学镀的方法，对具有凹槽图形的光刻胶进行金属化，使整个光刻胶表面，包括凹槽部分，形成电极层；带有导电层的光刻胶干板置入电铸槽中，进行金属离子的电沉积，在导电层上逐步沉积形成一定厚度金属薄板；将金属薄板从光刻胶干板上分离，并去除光刻胶，在金属板上形成凸型的网格图形结构。