发明名称 | 半导体防静电保护结构 | ||
摘要 | 一种半导体防静电保护结构,包括:半导体衬底,位于所述半导体衬底表面的鳍部,所述鳍部具有圆弧形表面,所述鳍部和衬底掺杂有P型杂质离子,覆盖所述鳍部的圆弧形表面的栅极,位于所述鳍部两端且位于所述半导体衬底表面的源区和漏区,所述源区和漏区掺杂有N型杂质离子,其中,所述源区、半导体衬底、栅极接地,所述漏区与外电路相连接。由于所述鳍部的表面积大于现有技术的源漏区之间衬底的面积,单位面积上流过的漏极电流较小,所述鳍部的温度较低,不容易使得鳍部和栅极烧毁。且由于所述鳍部具有圆弧形的表面,不会出现局部流过的电流较大,不会使得局部区域产生的热量过大,避免使得鳍部和栅极结构烧毁。 | ||
申请公布号 | CN103187412A | 申请公布日期 | 2013.07.03 |
申请号 | CN201110456995.9 | 申请日期 | 2011.12.30 |
申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 甘正浩;三重野文健;冯军宏 |
分类号 | H01L27/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/02(2006.01)I |
代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 骆苏华 |
主权项 | 一种半导体防静电保护结构,其特征在于,包括:半导体衬底,位于所述半导体衬底表面的鳍部,所述鳍部具有圆弧形表面,所述鳍部和衬底掺杂有P型杂质离子,覆盖所述鳍部的圆弧形表面的栅极,位于所述鳍部两端且位于所述半导体衬底表面的源区和漏区,所述源区和漏区掺杂有N型杂质离子,其中,所述源区、半导体衬底、栅极接地,所述漏区与外电路相连接。 | ||
地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 |