| 发明名称 | 注入装置及处理设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及注入装置以及包括该注入装置的处理设备。根据本发明的注入装置包括注入板，所述注入板具有多个喷嘴，通过所述喷嘴将所述处理气体注入处理腔室，其中所述喷嘴包括：形成在注入板中的注入孔，以及遮蔽物，其与所述注入孔对应以遮蔽所述注入孔；其中，所述遮蔽物为微致动器。本发明的注入装置及处理设备适于利用所述注入气体在置于所述处理腔室中的工件上进行沉积或进行刻蚀或其他处理。 | ||
| 申请公布号 | CN103184432A | 申请公布日期 | 2013.07.03 |
| 申请号 | CN201110452845.0 | 申请日期 | 2011.12.30 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 | 发明人 | 三重野文健 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 刘倜 |
| 主权项 | 一种用于将处理气体注入处理腔室的注入装置，其特征在于，所述注入装置包括注入板，所述注入板具有多个喷嘴，通过所述喷嘴将所述处理气体注入处理腔室，其中所述喷嘴包括：形成在注入板中的注入孔，以及遮蔽物，其与所述注入孔对应以遮蔽所述注入孔；其中，所述遮蔽物为微致动器。 | ||
| 地址 | 100176 北京市大兴区经济技术开发区文昌大道18号 | ||