| 发明名称 | 循环使用挡片的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种循环使用挡片的方法，所述挡片用于置入离子注入机，监控离子注入机注入剂量的正确性，该方法包括：对挡片进行N次预定剂量的离子注入，每次预定剂量的离子注入用于监控每次使用离子注入机时，其注入剂量的正确性，N为自然数；当N次所述离子注入后，挡片内离子注入的积累剂量达到E17原子每平方厘米时，对该挡片注入与所述离子注入相反类型的元素，所述相反类型元素的剂量为E17原子每平方厘米。采用本发明的方法有效延长了挡片的使用寿命，节约了生产成本。 | ||
| 申请公布号 | CN102191472B | 申请公布日期 | 2013.07.03 |
| 申请号 | CN201010129098.2 | 申请日期 | 2010.03.11 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 | 发明人 | 张进创;黄柏喻;叶文源;王蒙;邵明虎 |
| 分类号 | C23C14/48(2006.01)I;H01L21/265(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/48(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人 | 牛峥;王丽琴 |
| 主权项 | 一种循环使用挡片的方法，所述挡片用于置入离子注入机，监控离子注入机注入剂量的正确性，该方法包括：对挡片进行N次预定剂量的离子注入，所述离子注入的束电流大于1毫安，每次预定剂量的离子注入用于监控每次使用离子注入机时，其注入剂量的正确性，N为自然数；当N次所述离子注入后，挡片内离子注入的积累剂量达到E17原子每平方厘米时，对该挡片注入与所述离子注入相反类型的元素，所述相反类型元素的剂量为E17原子每平方厘米。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||