发明名称 | 一种通过定向自组装嵌段共聚物的光刻方法 | ||
摘要 | 本发明提供了一种通过定向自组装嵌段共聚物的光刻方法,该方法在在光刻图案的隔离间隔区的侧壁表面形成侧墙,以光刻图案和侧墙作为掩膜照射PETS层表面形成化学图案,从而减小所述化学图案中的化学改性区域的宽度,然后在具有化学图案的PETS层表面旋涂嵌段共聚物作为自组装层并退火,结合化学引导DSA和形貌引导DSA形成周期性结构域。 | ||
申请公布号 | CN103187245A | 申请公布日期 | 2013.07.03 |
申请号 | CN201110456341.6 | 申请日期 | 2011.12.30 |
申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 王冬江;周俊卿;张海洋 |
分类号 | H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
代理机构 | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人 | 牛峥;王丽琴 |
主权项 | 一种通过定向自组装嵌段共聚物的光刻方法,提供一基板,所述基板上沉积苯乙基三氯硅烷PETS层,所述PETS层上涂覆光刻胶,光刻后所述光刻胶图案化形成光刻图案,所述光刻图案包括隔离间隔区和第一沟道,其特征在于,该方法还包括:所述光刻图案表面沉积覆盖层;干法刻蚀所述覆盖层在所述光刻图案的隔离间隔区侧壁形成侧墙;以所述光刻图案和侧墙为掩膜照射所述PETS层,在所述PETS层表面形成化学图案,所述化学图案中化学改性区域的宽度小于所述第一沟道的宽度;剥离所述光刻图案和侧墙;在所述具有化学图案的PETS层表面旋涂嵌段共聚物作为自组装层;所述基板退火后,嵌段共聚物自组装形成聚合物嵌段组合,所述聚合物嵌段组合是具有周期性结构的有序结构域;去除某种聚合物嵌段形成图案化薄膜。 | ||
地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 |