| 发明名称 | 一种温敏自清洁聚偏氟乙烯膜及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种温敏自清洁聚偏氟乙烯膜及其制备方法，以聚偏氟乙烯、二氧化钛及N-异丙基丙烯酰胺为主要原料制得二氧化钛/N-异丙基丙烯酰胺纳米颗粒/聚偏氟乙烯共混膜。本发明工艺简单，易于操作，不需要昂贵的仪器，易于推广，制备的温敏自清洁聚偏氟乙烯膜具有良好的温度响应性能和自清洁性，在智能器件、水处理、生物化工等领域具有潜在的广泛应用价值。 | ||
| 申请公布号 | CN103182257A | 申请公布日期 | 2013.07.03 |
| 申请号 | CN201310117246.2 | 申请日期 | 2013.04.07 |
| 申请人 | 福州大学 | 发明人 | 张其清;周青;李建华;邵喜胜;闫邦峰 |
| 分类号 | B01D71/34(2006.01)I;B01D67/00(2006.01)I | 主分类号 | B01D71/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人 | 蔡学俊 |
| 主权项 | 一种温敏自清洁聚偏氟乙烯膜的制备方法，其特征在于：以聚偏氟乙烯、二氧化钛及N‑异丙基丙烯酰胺为主要原料。 | ||
| 地址 | 350002 福建省福州市鼓楼区工业路523号 | ||