发明名称 |
一种镀膜设备 |
摘要 |
本实用新型公开了一种镀膜设备,在该设备中可形成氧化层和氮化层的叠层,且所述氧化层为低温氧化层,该设备包括:反应腔室;与该反应腔室相连的气体管路,该气体管路连接氧化性气体源,该气体管路为在常规镀膜设备上新增的气体管路。本实用新型实施例通过在镀膜设备中引入氧化性气体管路,可以在此种镀膜设备中形成氧化层和氮化层的叠层结构,进一步提高减反射膜的钝化作用,从而提高太阳能电池的转化效率;并且将氧化层和氮化层的制作过程集成在一个镀膜设备中,此种镀膜设备避免在叠层结构制作过程中增加额外设备成本,简化了制作工艺,方便投入大规模生产。 |
申请公布号 |
CN203034099U |
申请公布日期 |
2013.07.03 |
申请号 |
CN201220510671.9 |
申请日期 |
2012.09.29 |
申请人 |
上饶光电高科技有限公司 |
发明人 |
金井升;黄纪德;许佳平;王单单;蒋方丹 |
分类号 |
C23C28/04(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
C23C28/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
王宝筠 |
主权项 |
一种镀膜设备,其特征在于,在该设备中可形成氧化层和氮化层的叠层,且所述氧化层为低温氧化层,该设备包括: 反应腔室; 与该反应腔室相连的气体管路,该气体管路连接氧化性气体源,该气体管路为在离子束蒸发设备、磁控溅射设备、APCVD设备、LPCVD设备或PECVD设备上新增的气体管路。 |
地址 |
334100 江西省上饶市上饶经济开发区金光大道8号 |