发明名称 Photosensitive resin composition and preparation method
摘要 A photosensitive resin composition comprises: 0.01 wt %-10 wt % of reflective particles; 0 wt %-12 wt % of pigment; 1 wt %-10 wt % of dispersant; 1.5 wt %-5 wt % of dispersion resin; 2 wt %-25 wt % of optically active polymer; 1 wt %-22 wt % of optical active monomer; 0.4 wt %-5 wt % of epoxy resin; 5 wt %-85 wt % of solvent; 0.1 wt %-3 wt % of photoinitiator; and 0.01 wt %-3.5 wt % of additives.
申请公布号 US8476331(B2) 申请公布日期 2013.07.02
申请号 US20100954033 申请日期 2010.11.24
申请人 YANG JIUXIA;BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. 发明人 YANG JIUXIA
分类号 C08L63/00;B32B27/18;B32B27/20;B32B27/38;C08G59/00;C08K3/00 主分类号 C08L63/00
代理机构 代理人
主权项
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