发明名称 |
Photosensitive resin composition and preparation method |
摘要 |
A photosensitive resin composition comprises: 0.01 wt %-10 wt % of reflective particles; 0 wt %-12 wt % of pigment; 1 wt %-10 wt % of dispersant; 1.5 wt %-5 wt % of dispersion resin; 2 wt %-25 wt % of optically active polymer; 1 wt %-22 wt % of optical active monomer; 0.4 wt %-5 wt % of epoxy resin; 5 wt %-85 wt % of solvent; 0.1 wt %-3 wt % of photoinitiator; and 0.01 wt %-3.5 wt % of additives.
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申请公布号 |
US8476331(B2) |
申请公布日期 |
2013.07.02 |
申请号 |
US20100954033 |
申请日期 |
2010.11.24 |
申请人 |
YANG JIUXIA;BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. |
发明人 |
YANG JIUXIA |
分类号 |
C08L63/00;B32B27/18;B32B27/20;B32B27/38;C08G59/00;C08K3/00 |
主分类号 |
C08L63/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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