发明名称 |
含有悬垂式烷氧矽烷基团之聚胺酯/脲 |
摘要 |
本发明系有关于聚胺酯/脲,其中聚胺酯/脲含有0.5至6重量%,以聚胺酯/脲之重量为基准,之烷氧矽烷基团(以矽计算,分子量为28),其加入系藉将异氰酸基团与一种包含脲与烷氧矽烷基团之二羟基化合物进行反应,其中聚胺酯/脲选择地包含亲水性基团与选择地分散于一种水性介质中。本发明亦有关于一种用于制备这些聚胺酯/脲之方法,与其于制备涂料之用途。 |
申请公布号 |
TWI400258 |
申请公布日期 |
2013.07.01 |
申请号 |
TW095117376 |
申请日期 |
2006.05.17 |
申请人 |
拜耳材料科学有限责任公司 美国 |
发明人 |
洛斯勒;金迪恩 |
分类号 |
C08G18/32;C08G18/08;C08G18/12;C09D175/04 |
主分类号 |
C08G18/32 |
代理机构 |
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代理人 |
林秋琴 台北市大安区敦化南路1段245号8楼;陈彦希 台北市大安区敦化南路1段245号8楼;何爱文 台北市大安区敦化南路1段245号8楼 |
主权项 |
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地址 |
美国 |