发明名称 正型光阻组成物及使用它之图案形成方法
摘要 一种光阻组成物,其包括:(A)一种含由式(I)表示之重复单元的树脂;及(B)一种在以光化射线或辐射照射时可产生酸之化合物:;其中AR表示苯环或萘环;R表示氢原子、烷基、环烷基、或芳基;Z表示用于与AR一起形成环之键联基;及A表示选自氢原子、烷基、卤素原子、氰基、与烷氧基羰基之原子或基,及一种使用此光阻组成物之图案形成方法。
申请公布号 TWI400571 申请公布日期 2013.07.01
申请号 TW096108485 申请日期 2007.03.13
申请人 富士软片股份有限公司 日本 发明人 水谷一良;岩户薰;儿玉邦彦;牧野雅臣
分类号 G03F7/039;G03F7/028;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项
地址 日本
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