金属用研磨液

摘要

本发明之课题系提供一种金属用研磨液，虽然是高速研磨速度但是凹状扭曲研磨(dishing)小，能够化学机械性研磨基板。;本发明之解决手段系提供一种金属用研磨液，系制造半导体元件时使用于化学机械性研磨之研磨液，含有至少式(A)所示四唑化合物之至少一种、及式(B)或式(C)所示三唑系化合物之至少一种。