| 摘要 |
本发明系有关于一种平板显示用灰度光罩基板及使用上述灰度光罩基板制造之灰度光罩，本发明在湿式蚀刻制程中由于具备了蚀刻选择比优异的透射调节膜而可以精密地控制半透射部之透射率并以较高良率制造灰度光罩。本发明之灰度光罩基板由耐化学性较强且可以进行湿式蚀刻之遮光膜与耐化学性较强且可以进行湿式蚀刻的透射调节膜组成，上述各遮光膜与透射调节膜可以透过各自的蚀刻液选择性地进行蚀刻。本发明之灰度光罩基板也可以包括耐化学性较强且可以进行湿式蚀刻之遮光膜、具有同一蚀刻特性之透射调节膜、以及耐化学性较强且可以进行湿式蚀刻之位于上述遮光膜与透射调节膜之间的蚀刻阻止膜，上述遮光膜、透射调节膜及蚀刻阻止膜可以透过各自的蚀刻液而选择性地进行蚀刻。 |
