发明名称 应用于微奈米压印制程之模具
摘要 本发明揭露一种应用于微奈米压印制程之模具,该模具系用以透过一材料层而于一基板上压印一图案,其包含一上表面、一下表面、一预定结构以及一溢流控制结构。该上表面及该下表面系相互对应,该预定结构系设置于该模具之下表面,该溢流控制结构系用以维持该材料层于该模具与该基板间之压力。
申请公布号 TWI400160 申请公布日期 2013.07.01
申请号 TW099139717 申请日期 2010.11.18
申请人 国立台湾科技大学 台北市大安区基隆路4段43号 发明人 张复瑜
分类号 B29C59/02;B82B3/00 主分类号 B29C59/02
代理机构 代理人 谢志敏 新北市永和区保生路1号19楼之4;林育雅 新北市永和区保生路1号19楼之4
主权项
地址 台北市大安区基隆路4段43号