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发明名称
应用于微奈米压印制程之模具
摘要
本发明揭露一种应用于微奈米压印制程之模具,该模具系用以透过一材料层而于一基板上压印一图案,其包含一上表面、一下表面、一预定结构以及一溢流控制结构。该上表面及该下表面系相互对应,该预定结构系设置于该模具之下表面,该溢流控制结构系用以维持该材料层于该模具与该基板间之压力。
申请公布号
TWI400160
申请公布日期
2013.07.01
申请号
TW099139717
申请日期
2010.11.18
申请人
国立台湾科技大学 台北市大安区基隆路4段43号
发明人
张复瑜
分类号
B29C59/02;B82B3/00
主分类号
B29C59/02
代理机构
代理人
谢志敏 新北市永和区保生路1号19楼之4;林育雅 新北市永和区保生路1号19楼之4
主权项
地址
台北市大安区基隆路4段43号
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