发明名称 基板处理装置及基板处理系统
摘要 课题;提供一种可抑制盖体的开闭动作所必须的装置空间的基板处理装置。;解决手段;由盖体62气密地抵接于室本体61的状态,起动昇降马达107,127,稍上昇盖体62。然后,将盖体62,沿着段差地配设于处理室60的两侧部的导轨201,202,朝水平方向进行滑动移动。将盖体62滑动至从室本体61偏离之位置为止之后,使之下降,而在下降后的位置进行旋转盖体62。
申请公布号 TWI400753 申请公布日期 2013.07.01
申请号 TW095132060 申请日期 2006.08.30
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 盐野胜美;出口新悟
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本