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经营范围
发明名称
基板处理装置及基板处理系统
摘要
课题;提供一种可抑制盖体的开闭动作所必须的装置空间的基板处理装置。;解决手段;由盖体62气密地抵接于室本体61的状态,起动昇降马达107,127,稍上昇盖体62。然后,将盖体62,沿着段差地配设于处理室60的两侧部的导轨201,202,朝水平方向进行滑动移动。将盖体62滑动至从室本体61偏离之位置为止之后,使之下降,而在下降后的位置进行旋转盖体62。
申请公布号
TWI400753
申请公布日期
2013.07.01
申请号
TW095132060
申请日期
2006.08.30
申请人
东京威力科创股份有限公司 日本
发明人
盐野胜美;出口新悟
分类号
H01L21/3065
主分类号
H01L21/3065
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址
日本
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