雷射照射方法及装置

摘要

本发明之课题是改良雷射照射方法，使在雷射照射后之被处理基板(S)不会出现条纹般之处理图案。;本发明之解决手段是同时一面在带状照射区域(6)之长轴方向变化带状照射区域(6)之位置，并一面进行雷射照射时，使带状照射区域(6)之位置固定在B1和B2之2个位置，但是使切换位置之时序成为不规则变化。;本发明之效果是可以防止在雷射照射后之被处理基板(S)出现条纹般之处理图案。