基底与使用此等基底的方法

摘要

本发明揭示一种自一用于微影术中之装置移除污染物的方法。该方法包括：将一基底装载至该装置中，该基底包含一刚性支撑层及一提供于该刚性支撑层上之可变形层；致使该基底之该可变形层与该装置之待自其移除去污染物之一表面接触；在该可变形层与该装置之待自其移除去污染物之该表面之间引入相对移动，以自该表面驱逐污染物以供移除；及移除该经驱逐污染物。本发明亦描述及主张本发明之其他态样。