溅镀式镀膜装置及镀膜方法

摘要

本发明涉及一种溅镀式镀膜装置，其包括一镀膜工作室；一运载装置，其可沿该镀膜工作室之底部之延伸方向做线性运动，该运载装置包括一固定座及至少一承载台，该至少一承载台可绕该固定座旋转且其相对于该固定座设置，用于承载工件；以及至少一靶材，其设置于该镀膜工作室内，用于对该工件进行镀膜。该溅镀式镀膜装置及镀膜方法可对工件之表面进行镀膜，并于不增加靶材之数量之前提下控制膜层之厚度，从而达到降低生产成本之目的。