发明名称 用于交叉点之三维及三维肖脱基二极体、可变电阻材料记忆体、其制造方法及使用方法
摘要 一种可变电阻材料记忆体(VRMM)器件包括一容器型导体,其安置于一耦接至一VRMM之磊晶半导电突起上方。一VRMM器件亦可包括一位于一凹部中之导电插塞,其耦接至一VRMM。一VRMM阵列亦可包括一位于一周围凹部中之导电插塞,其耦接至一VRMM。装置包括具有该等二极体构造中之一者的VRMM。
申请公布号 TWI400768 申请公布日期 2013.07.01
申请号 TW098101432 申请日期 2009.01.15
申请人 美光科技公司 美国 发明人 刘峻;凡欧里特 麦可P
分类号 H01L21/76;H01L45/00 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 美国