发明名称 透明导电膜成膜方法
摘要 一种透明导电膜成膜方法,是在一真空腔体内溅镀一标靶,该标靶包含一种主添加氧化物,该主添加氧化物为氧化锌,其特征在于:该标靶更具有一种副添加氧化物,该副添加氧化物具有铝之氧化物,及碳元素,该碳元素含量为50 ppm~500 ppm。本发明的功效在于:利用在该标靶之上添加有铝之氧化物,及碳元素,使该标靶的导电性提高,因而使成型之后的透明导电膜的薄膜比电阻降低,同时可提升电阻分布的均匀性。
申请公布号 TWI400348 申请公布日期 2013.07.01
申请号 TW099108499 申请日期 2010.03.23
申请人 中国钢铁股份有限公司 高雄市小港区中钢路1号 发明人 黄宏胜;董寰乾;张瑞东;陈荣志;洪胤庭;邱军浩
分类号 C23C14/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人 高玉骏 台北市松山区南京东路3段248号7楼;杨祺雄 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项
地址 高雄市小港区中钢路1号