| 发明名称 | 聚合物薄膜 | ||
| 摘要 | 根据本发明，可以提供一种聚合物薄膜，该聚合物薄膜的Ra(算术平均粗糙度)为0.5μm～2.5μm，Ry(最大高度)为3μm～11μm，Rz(十点平均高度)为3μm～8μm，透光率为85％以上。本发明的优选实施方案能够同时满足以往没有的光漫射作用、辉度提高、透射率等。此外，优选的方案是，Sm(凹凸的平均间隔)为90μm～160μm，局部峰顶的平均间隔(S)为5μm～15μm。 | ||
| 申请公布号 | CN101622120B | 申请公布日期 | 2013.06.26 |
| 申请号 | CN200780046713.X | 申请日期 | 2007.12.21 |
| 申请人 | MGC菲尔须特股份有限公司;三菱瓦斯化学株式会社 | 发明人 | 加藤贤治;林胜茂;横山润;三浦光雄;奈良努 |
| 分类号 | B29C59/04(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I;G02B1/11(2006.01)I;G02F1/13357(2006.01)I;B29L11/00(2006.01)N;B29K69/00(2006.01)N | 主分类号 | B29C59/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种聚合物薄膜，该聚合物薄膜通过熔融挤出法来制造，所述聚合物薄膜是将熔融薄膜通过在具有橡胶弹性的第一冷却辊和表面压花加工的金属制第二冷却辊之间挤压、从而在薄膜表面上赋予凹凸形状而成的单面压花薄膜，所述聚合物薄膜的表面的算术平均粗糙度Ra为1.0μm～2.5μm，最大高度Ry为3μm～11μm，十点平均高度Rz为3μm～8μm，透光率为85％以上。 | ||
| 地址 | 日本埼玉县 | ||