发明名称 |
用于制造光学元件的装置和方法、光学元件和成像装置 |
摘要 |
本发明涉及用于制造光学元件的装置和方法、以及光学元件和成像装置,所述用于制造光学元件的装置包括:挠性模具,其具有转印预定形状的转印部分并且具有可变曲率;模具保持机构,其保持所述模具;元件保持机构,其保持具有凸形或凹形曲面的光学元件,所述曲面作为被转印表面,模具的转印部分的形状被转印到所述被转印表面;曲率改变机构,其根据光学元件的被转印表面的曲率改变模具的曲率;以及移动机构,其在模具的转印部分移动远离或靠近光学元件的被转印表面的方向上移动被模具保持机构保持的模具和被元件保持机构保持的光学元件中的至少一个。 |
申请公布号 |
CN101791836B |
申请公布日期 |
2013.06.26 |
申请号 |
CN201010106304.8 |
申请日期 |
2010.01.29 |
申请人 |
索尼公司 |
发明人 |
安藤正树 |
分类号 |
B29C43/18(2006.01)I;B29C43/36(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I;B29L11/00(2006.01)N |
主分类号 |
B29C43/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
马高平 |
主权项 |
一种用于制造光学元件的装置,包括:挠性模具,其具有转印预定形状的转印部分并且具有可变曲率;模具保持机构,其保持所述模具;元件保持机构,其保持具有凸形或凹形曲面的光学元件,所述曲面作为被转印表面,所述模具的转印部分的形状被转印到所述被转印表面;曲率改变机构,其根据所述光学元件的被转印表面的曲率改变所述模具的曲率;以及移动机构,其在所述模具的转印部分移动远离或靠近所述光学元件的被转印表面的方向上移动被所述模具保持机构保持的所述模具和被所述元件保持机构保持的所述光学元件中的至少一个,其中,密闭空间形成在所述模具和所述模具保持机构之间,并且其中,曲率改变机构形成为通过改变所述密闭空间中的压力来改变所述模具的转印部分的曲率。 |
地址 |
日本东京都 |